Deutscher Presseindex

Autor: Firma Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS

Erstes Chemnitzer Industriegespräch der Deutschen Physikalischen Gesellschaft auf dem Smart Systems Campus
11 Okt
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

Erstes Chemnitzer Industriegespräch der Deutschen Physikalischen Gesellschaft auf dem Smart Systems Campus

Das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS ist Veranstaltungsort des ersten Chemnitzer Industriegespräches der DPG auf dem Smart Systems Campus. Das Institut begrüßt dazu Dr. Volker Linß von der VON ARDENNE GmbH in Dresden, der über die Entwicklung des Unternehmens und Tätigkeitsfelder eines Physikers bei einem Anlagenbauer sprechen wird. Die Deutsche Physikalische Gesellschaft (kurz: DPG) lädtRead more about Erstes Chemnitzer Industriegespräch der Deutschen Physikalischen Gesellschaft auf dem Smart Systems Campus[…]

Individualisierung von Produkten in der Massenfertigung: Entwicklung von Spitzentechnologie im Fraunhofer-Leitprojekt »Go Beyond 4.0«
17 Sep
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

Individualisierung von Produkten in der Massenfertigung: Entwicklung von Spitzentechnologie im Fraunhofer-Leitprojekt »Go Beyond 4.0«

Sechs Fraunhofer-Instituten ist es gelungen, durch digitale Druck- und Laserverfahren die Individualisierung von Bauteilen in Massenproduktionsumgebungen zu realisieren. Dadurch ergeben sich völlig neue Möglichkeiten für Design und Gewichtsreduktion durch Materialeinsparungen. Sechs Fraunhofer-Instituten (ENAS, IFAM, ILT, IOF, ISC und IWU) ist es gelungen, mit digitalen Druck- und Laserverfahren z.B. Leiterbahnen, Sensorik und Hightech-Beleuchtungsmodule individuell, in BauteileRead more about Individualisierung von Produkten in der Massenfertigung: Entwicklung von Spitzentechnologie im Fraunhofer-Leitprojekt »Go Beyond 4.0«[…]

Piezoelektrische Mikrosensoren auf Basis von Aluminiumnitrid für die Industrie
24 Jun
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

Piezoelektrische Mikrosensoren auf Basis von Aluminiumnitrid für die Industrie

Piezoelektrische Mikrosysteme mit Aluminiumnitrid (AlN) werden am Fraunhofer ENAS seit einigen Jahren entwickelt. Diese Mikrosysteme besitzen eine hohe Energiedichte, was eine starke Miniaturisierung der Systeme ermöglicht. Damit können Energieverbrauch und Kosten bei der Herstellung der Systeme verringert werden und die Vielfalt der Anwendungsmöglichkeiten steigt. Das Basismaterial Aluminiumnitrid lässt sich im Gegensatz zu herkömmlich verwendeten Blei-Zirkonat-TitanatRead more about Piezoelektrische Mikrosensoren auf Basis von Aluminiumnitrid für die Industrie[…]

Nahfeldmessungen mit dem NFS3000 zur elektromagnetischen Charakterisierung von Bauteilen und Systemen
24 Jun
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

Nahfeldmessungen mit dem NFS3000 zur elektromagnetischen Charakterisierung von Bauteilen und Systemen

Durch die immer weiter voranschreitende Digitalisierung gibt es heute einen enormen Zuwachs an elektronischen Geräten im privaten, öffentlichen oder industriellen Bereich. Mit dem »Internet of Everything« und der damit steigenden Vernetzung lassen sich Daten unterschiedlichster Anwendungen miteinander verknüpfen und versprechen hierbei einen Gewinn an nutzbaren Informationen. Dabei lassen sich drei wesentliche Tendenzen in der EntwicklungRead more about Nahfeldmessungen mit dem NFS3000 zur elektromagnetischen Charakterisierung von Bauteilen und Systemen[…]

Waferlevel-Prozess zur Abscheidung dicker Aluminium-Schichten für die Aufbau- und Verbindungstechnik
24 Jun
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

Waferlevel-Prozess zur Abscheidung dicker Aluminium-Schichten für die Aufbau- und Verbindungstechnik

Das Fraunhofer ENAS hat in dem vom BMBF-geförderten Verbundprojekt „AioLi“ (FKZ: 16ES0329K) einen Prozess zur Abscheidung von dicken Aluminiumschichten auf Leiterplatten-, Silizium- und Keramiksubstraten entwickelt. Aufgrund negativen Standardpotentials von Aluminium erfolgt die galvanische Abscheidung aus ionischen Flüssigkeiten, da in wässrigen Elektrolyten keine Abscheidung von Aluminium möglich ist. Mit diesem Abscheideverfahren können Schichtdicken bis derzeit 30Read more about Waferlevel-Prozess zur Abscheidung dicker Aluminium-Schichten für die Aufbau- und Verbindungstechnik[…]

Waferlevel-Prozess zur Abscheidung dicker Aluminium-Schichten für die Aufbau- und Verbindungstechnik
24 Jun
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

Waferlevel-Prozess zur Abscheidung dicker Aluminium-Schichten für die Aufbau- und Verbindungstechnik

Das Fraunhofer ENAS hat in dem vom BMBF-geförderten Verbundprojekt „AioLi“ (FKZ: 16ES0329K) einen Prozess zur Abscheidung von dicken Aluminiumschichten auf Leiterplatten-, Silizium- und Keramiksubstraten entwickelt. Aufgrund negativen Standardpotentials von Aluminium erfolgt die galvanische Abscheidung aus ionischen Flüssigkeiten, da in wässrigen Elektrolyten keine Abscheidung von Aluminium möglich ist. Mit diesem Abscheideverfahren können Schichtdicken bis derzeit 30Read more about Waferlevel-Prozess zur Abscheidung dicker Aluminium-Schichten für die Aufbau- und Verbindungstechnik[…]

Fraunhofer ENAS zeigt auf dem Weltverkehrsforum Sensorsysteme für die Sicherheit von Schienenfahrzeugen
24 Mai
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

Fraunhofer ENAS zeigt auf dem Weltverkehrsforum Sensorsysteme für die Sicherheit von Schienenfahrzeugen

Auf dem Weltverkehrsforum 2019 in Leipzig stellte das Fraunhofer ENAS gemeinsam mit dem Zentrum für Mikrotechnologien im Rahmen des »Smart Rail Connectivity-Campus« am Stand des Sächsischen Staatsministeriums für Wirtschaft, Arbeit und Verkehr (SMWA) ein innovatives Sensorsystem für sichere Schienenfahrzeuge vor. Am 22. Mai 2019 besuchten der sächsische Ministerpräsident Michael Kretschmer gemeinsam mit dem Bundesverkehrsminister AndreasRead more about Fraunhofer ENAS zeigt auf dem Weltverkehrsforum Sensorsysteme für die Sicherheit von Schienenfahrzeugen[…]

Erstmalig »Thomas Gessner Award« auf der SSI 2019 in Barcelona verliehen
24 Apr
Posted in Events No comments

Erstmalig »Thomas Gessner Award« auf der SSI 2019 in Barcelona verliehen

Auf der Smart Systems Integration Conference and Exhibition wurde am 10. April 2019 erstmalig der »Thomas Gessner Award« verliehen. Der Preisträger ist Dr. Christian Huber von der Robert Bosch GmbH in Renningen. Auf der Smart Systems Integration Conference and Exhibition wurde am 10. April 2019 erstmalig der »Thomas Gessner Award« verliehen. Preisträger ist Dr. ChristianRead more about Erstmalig »Thomas Gessner Award« auf der SSI 2019 in Barcelona verliehen[…]

Fraunhofer ENAS verleiht Forschungspreis für Entwicklung von Technologien für 3D-Integration in MEMS-Anwendungen
17 Dez
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

Fraunhofer ENAS verleiht Forschungspreis für Entwicklung von Technologien für 3D-Integration in MEMS-Anwendungen

Dr. Lutz Hofmann erhielt den Forschungspreis des Fraunhofer ENAS 2018. Mit seinen Forschungsergebnissen zur 3D-Integration und kupfergefüllten Durchkontakten in Mikrosystemen trug er zum Expertenstatus des Chemnitzer Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS als eines der weitweit wenigen Forschungsinstituten auf diesem Gebiet bei. Der mit 5.000 Euro dotierte Forschungspreis des Fraunhofer-Instituts für Elektronische Nanosysteme ENAS wurde 2018Read more about Fraunhofer ENAS verleiht Forschungspreis für Entwicklung von Technologien für 3D-Integration in MEMS-Anwendungen[…]

FRT GmbH und Fraunhofer ENAS stellen gemeinsam ein Oberflächenmessgerät mit Thermoeinheit für die Charakterisierung lateraler und vertikaler Probenverformungen im Nanometerbereich vor
20 Jun
Posted in Forschung und Entwicklung No comments

FRT GmbH und Fraunhofer ENAS stellen gemeinsam ein Oberflächenmessgerät mit Thermoeinheit für die Charakterisierung lateraler und vertikaler Probenverformungen im Nanometerbereich vor

Auf der SENSOR+TEST 2018 in Nürnberg stellt das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS vom 26. bis 28. Juni 2018 am Gemeinschaftsstand der Fraunhofer-Gesellschaft (Nr. 5-248) in Halle 5 zusammen mit den Projektpartnern Chemnitzer Werkstoffmechanik GmbH und FRT GmbH das optische Oberflächenmessgerät MicroProf® TL vor. Der MicroProf® TL ist ein optisches Oberflächenmessgerät für die vollautomatische 3D-OberflächenmessungRead more about FRT GmbH und Fraunhofer ENAS stellen gemeinsam ein Oberflächenmessgerät mit Thermoeinheit für die Charakterisierung lateraler und vertikaler Probenverformungen im Nanometerbereich vor[…]